Ждём Ваших отзывов о материале.

Соблюдение Правил конференции строго обязательно!
Флуд, флейм и оффтоп преследуются по всей строгости закона!
За статью можно проголосовать на странице материала.

Напоминаем о том, что на сообщения новых участников распространяется действие системы премодерации сообщений.

О нарушениях можно сообщить модератору, нажав синюю кнопку #77 справа над спорным сообщением.

Хоть кто-то реально работает и тащит технологии вперёд, а не треплется обещаниями и слайды показывает.

Вообще-то ASML для 3400B говорит о 13нм разрешении. https://www.asml.com/products/systems/twinscan-nxe/twinscan-nxe3400b/nl/s46772?dfp_product_id=10850
Вообще, немного странно, так как TSMC говорят именно о однократной экспозиции на N7+

Gokul Hariharan
JP Morgan Chase & Co, Research Division - Head of Taiwan Equity Research and Senior Tech Analyst
Okay. So my second question is on N7 and N7+. Now TSMC appears to be in the best position to comment about the benefits of EUV
given that you have N7 and N7+, one in production, one in risk production. Could you talk a little bit about the kind of improvements that we are seeing either from the EUV perspective or reduction in mask layers, et cetera, and the impact in terms of overall cycle time for the fab comparing N7 and N7+.
C. C. Wei
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited - CEO & Vice Chairman
Okay, actually the question is about the EUV and how much of the benefit we can get from the EUV, right? Usually, if we are not using
the EUV, sometimes for the very critical dimension on the N7, you have to -- or N7+, you have to use the 4 layers of lithography to pattern one of the critical dimension. Now using the EUV, you're just using 1 layer so that you reduce the cycle time by 4x of photolithography, 4x of etch. Now you become 1 lithography, 1 etch. In total, how many layers we reduced? That depends on the customer's requirement, but usually I just give you a hint already, right, 4 layer can become 1 and we are replacing some of the 3 layers to become 1 and we have a few layers of that. So that give you a hint. Cycle time reduction, definitely, because you do 4x into 1x, that's a big advantage.
Productivity-wise, today, EUV is progress very well -- up to our expectation. And in fact, TSMC has turned on the 250-watt power and we
believe we are the only one company continuously run the 250 watts EUV power so far today. Okay

Если бы все отрасли так развивались, как микроэлектроника, мы бы уже летали к звёздам, занимаясь активным отдыхом и развитием, а не рутиной работы, как мечтали наши предки, говоря о нашем времени.

Drugok001(new) мы явно лучше живём, чем наши предки и занимаемся активным отдыхом и развитием. А вот если бы не воевали и следили за экологией, то и лететь на другие звезды не захотелось.

lampa, за 50 лет с 70-х кроме микроэлектроники значительного прогресса не достигла ни одна отрасль. А это целых пол века! Примерно тогда всё и остановилось. Из действительно прорывов можно назвать только моноколесо - это действительно транспорт будущего по меркам 70-х. Остальное - незначительные изменения. За предыдущие 50 лет прогресс был в сотни раз мощнее. От телег до полётов на другие планеты.