Соблюдение Правил конференции строго обязательно! Флуд, флейм и оффтоп преследуются по всей строгости закона! За статью можно проголосовать на странице материала.
Member
Статус: Не в сети Регистрация: 14.09.2012 Откуда: Киев
Для EUV экспонирование необходимо проводить в вакууме. Но и тут возникает масса проблем по поддержанию этого самого вакуума, так как жидкости наносимые на поверхность пластины будут активно испаряться.
_________________ Статьи в Персональных Страницах: - Особенности перехода с 300 мм на 450 мм пластины (2012.09.30)
Member
Статус: Не в сети Регистрация: 25.09.2008 Откуда: Україна Одеса
Автор!
Цитата:
всё будет внове
Внове — I нареч. качеств. обстоят. разг. сниж. Снова, опять; вновь. II предик. разг. сниж. Оценочная характеристика состояния как не испытываемого ранее, как нового, непривычного для кого либо; в новинку. Толковый словарь Ефремовой. Т. Ф. Ефремова. 2000 …
Так вот ты как заговорил!
_________________ Русский военний корабль, иди на@й! Слава Україні! Смерть ворогам!
Member
Статус: Не в сети Регистрация: 14.09.2012 Откуда: Киев
redrar писал(а):
опять кормят сказками ((( скок ужо революционеров умерло от старости, а они всё обещают Ы
Новостным сайтам нужно же как-то жить, поэтому и немного искажают суть
В оригинальной статье говорится несколько о другом. О метрологическом оборудовании для масок. Само EUV к середине 2014 никто приготовить не обещает. Это ближе к 2017-2018.
_________________ Статьи в Персональных Страницах: - Особенности перехода с 300 мм на 450 мм пластины (2012.09.30)
Member
Статус: Не в сети Регистрация: 14.09.2012 Откуда: Киев
GreenCo писал(а):
Вы, наверное, по диагонали читаете? Попробуйте ещё раз перечитать, о чём говорится в заметке.
Могу предложить то же и вам. Pot meet kettle, как говорится.
Цитата:
Предполагается, что EUV-литографию можно будет внедрять, начиная с 16-нм техпроцесса.
Оригинальный текст:
Цитата:
The tool will support 16-nm half-pitch technology node requirements and beyond. It is expected to be ready for production in mid-2014.
Инструментарий будет поддерживать требования начиная с 16 нм, половинного, техпроцесса. Готовность к производству (инструментария) намечена к середине 2014.
Под инструментарием подразумевается "actinic aerial image metrology EUV system". Грубо говоря метрологический инструментарий для выявления дефектов масок для UEV оборудования.
Замените "EUV-литографию" на "инструментарий" или AIMS и не вводите читателей в заблуждение неточностями.
_________________ Статьи в Персональных Страницах: - Особенности перехода с 300 мм на 450 мм пластины (2012.09.30)
Цитата: Предполагается, что EUV-литографию можно будет внедрять, начиная с 16-нм техпроцесса.
Оригинальный текст: Цитата: The tool will support 16-nm half-pitch technology node requirements and beyond. It is expected to be ready for production in mid-2014.
Инструментарий будет поддерживать требования начиная с 16 нм, половинного, техпроцесса. Готовность к производству (инструментария) намечена к середине 2014.
Под инструментарием подразумевается "actinic aerial image metrology EUV system". Грубо говоря метрологический инструментарий для выявления дефектов масок для UEV оборудования.
Замените "EUV-литографию" на "инструментарий" и не вводите читателей в заблуждение неточностями.
Не вижу противоречий, если честно. Маски для EUV не могут быть отделены от самого EUV-процесса, хоть меняй одно на другое, хоть не меняй. Подготовить выпуск производственного оборудования для бездефектных масок, это тоже входит в круг определений "подготовить выпуск производственного EUV-оборудования". Никто не говорит, что это будет середина 14-го. Как минимум, через год. И я не привязывал 16-нм к 14-му году. Никто не мешает кому-то начать внедрять 16-нм с помощью EUV в 2020, например.
Member
Статус: Не в сети Регистрация: 14.09.2012 Откуда: Киев
GreenCo писал(а):
Не вижу противоречий, если честно. Маски для EUV не могут быть отделены от самого EUV-процесса, хоть меняй одно на другое, хоть не меняй. Подготовить выпуск производственного оборудования для бездефектных масок, это тоже входит в круг определений "подготовить выпуск производственного EUV-оборудования".
Плохо, что не видите. Или что-то не позволяет видеть.
Как читатель догадается, что "EUV литография" в вашем понимании это метрологическое оборудование для выявления дефектов масок? Первое не суть второе. Спорить с этим бессмысленно.
_________________ Статьи в Персональных Страницах: - Особенности перехода с 300 мм на 450 мм пластины (2012.09.30)
Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и гости: 14
Вы не можете начинать темы Вы не можете отвечать на сообщения Вы не можете редактировать свои сообщения Вы не можете удалять свои сообщения Вы не можете добавлять вложения