Соблюдение Правил конференции строго обязательно! Флуд, флейм и оффтоп преследуются по всей строгости закона! За статью можно проголосовать на странице материала.
EUV-версия 7-нм технологии позволяет использовать всего одну фотомаску вместо четырёх для получения одного слоя полупроводниковых элементов. ... В среднем, количество необходимых фотомасок сокращается на 20%.
Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и гости: 16
Вы не можете начинать темы Вы не можете отвечать на сообщения Вы не можете редактировать свои сообщения Вы не можете удалять свои сообщения Вы не можете добавлять вложения